DF系列擴散器專用納米級過濾器_低壓款氣體過濾器

恒歌納米級DF系列擴散器專用過濾器、專為半導體制程中真空腔體快速放氣應用進行設計。結合了擴散器的氣體流動特性和高效過濾器的顆粒攔截特性、擴散器專用過濾器過濾精度可達0.003um。獨特的全316L不銹鋼結構、不僅確保高效過濾、更巧妙的規避了湍流產生、對工藝室環境造成影響、有效防止氣流吹起顆粒或者吹起硅片。可定制化設計、靈活適應各類安裝空間。

產品特點

● ?不銹鋼粉末燒結介質、可快速排氣

● ?整體316L不銹鋼結構

● ?減少工藝腔體排氣時的湍流

● ?適用于多種工藝氣體

● ?潔凈室環境內制造、測試、包裝

● ?100%完整性測試通過

● ?100%氨氣泄露檢測通過、耐高溫、耐高壓、耐腐蝕

● ?防止微粒混入、幫助提高產品合格率可根據安裝空間進行設計

應用領域

DF系列擴散器專用過濾器廣泛應用于半導體制造中的各種工藝環節，如光刻、蝕刻、離子注入等。它能夠有效去除氣體中的雜質，確保氣體的高純度，從而提高芯片的良品率和生產效率。此外，它還適用于其他需要高純度氣體的工業領域，如電子制造、化工等。

在半導體制程中，DF 系列擴散器應用氣體過濾器主要有以下原因：

● ?防止顆粒污染：半導體制造對環境潔凈度要求極高，哪怕微小顆粒也可能導致芯片短路、斷路或其他性能缺陷。氣體過濾器能攔截 0.003um 及以上的顆粒，確保進入真空腔體的氣體純凈，防止顆粒在工藝過程中附著在硅片或其他關鍵部件上，提高產品合格率。

● ?避免氣體雜質影響工藝：半導體制程中的光刻、蝕刻等工藝對氣體純度要求嚴格。過濾器可去除氣體中的雜質，如水分、油分、金屬離子等，避免這些雜質與工藝氣體發生化學反應，或在高溫、高壓等條件下對硅片表面造成腐蝕、污染，保證工藝的一致性和穩定性。

● ?保護設備：潔凈的氣體可減少對擴散器及其他相關設備內部組件的磨損和腐蝕，延長設備使用壽命，降低維護成本。如果氣體中的顆粒或雜質進入設備內部，可能會堵塞氣體通道、磨損密封件，影響設備的正常運行。

● ?滿足工藝精度要求：隨著半導體器件尺寸不斷縮小，工藝精度要求越來越高。使用氣體過濾器能提供穩定、純凈的氣體環境，滿足高精度工藝要求，確保半導體產品的性能和質量達到標準。

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